EUV微影是未來邁向1奈米元件的主流製程技術，但高亮度的EUV光源取得不易，直接影響該技術的發展。NSRRC不但提供加速器EUV光源，協助廠商進行EUV光阻、光罩與光源開發；NSRRC也提供最尖端的材料分析技術，以高精度、非破壞與臨場分析超薄(~nm)半導體材料，協助台灣半導體廠商解決奈米尺度的關鍵材料問題。

現有電漿EUV光源功率有限，污染嚴重，是半導體技術邁向1奈米極限的關鍵障礙。而透過同步加速器光源可以大幅提升功率超過千瓦，是目前半導體設備商積極尋求的替代光源。透過同步加速器光源之超低掠角X光繞射、吸收與光電子能譜等技術，可以精準分析超薄奈米晶片的物理、化學與電子結構，協助廠商改善半導體關鍵製程。

國家同步輻射研究中心鄰近台灣半導體產業，近年除了與國際半導體設備大廠ASML簽訂合作備忘錄外，並與台積電及美國新創公司Lyncean密切合作，共同尋求加速器EUV光源技術的合作發展。此外，NSRRC已執行超過5年的台積電委託研究計畫，使用最尖端的加速器光源分析技術，協助解決奈米尺度的關鍵材料問題，在