技術名稱 一種閘極結構以達成無電滯特性之負電容場效電晶體
計畫單位 國立臺灣大學
計畫主持人 -
技術簡介
利用設計之負電容場效電晶體(NCFET)閘極,能夠消除電壓電流特性中的電滯現象,並達成次臨界擺幅約40mV/decade。
科學突破性
達成次臨界擺幅  60mV/decade的同時,元件有足夠大的導通電流及無電滯現象的輸出特性曲線。
產業應用性
降低功率損耗可應用於需要次臨界擺幅(sub-threshold slope)  60mV/decade 之半導體元件。
關鍵字
  • 聯絡人
  • 黃慧嫺
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