技術名稱 高效率微米級X光電腦斷層掃描
計畫單位 財團法人國家同步輻射研究中心
計畫主持人 殷廣鈐
技術簡介
本技術專為快速且精確地擷取二維和三維X光影像而設計,適用於不同材料、尺寸和實驗狀態。主要系統包含投影X光顯微鏡(PXM)和透射X射線顯微鏡(TXM),共同使用高效偵測器模組。PXM和TXM具備高精度旋轉台能夠進行斷層掃描, 以及自動換樣系統。另配備1PB磁碟陣列和GPU計算叢集以確保高效數據處理。
科學突破性
高強度同步輻射光源使臨場實驗成為可能,並能處理超過兆位元組的數據。新技術提高了速度和解析度,相比傳統方法,速度增長一至兩個數量級,解析度提升一個數量級,推動科學研究進步。並且配合自動換樣, 對位系統, 人工智慧的自動資料處理, 可以使得此項技術變成相當強大的分析工具。
產業應用性
X光影像技術現已具備高解析度和多維度成像能力。在能源材料方面,可觀察鋰電池材料的內部結構和缺陷。在環境科學中,用於研究土壤和污染物的分佈。在生物科技領域,可分析生物組織和開發醫療器材。在古生物學中,檢測化石結構揭示生物演化。在新穎材料的3D列印中,檢查材料內部結構和缺陷,提升產品質量。
關鍵字 X光斷層掃描 微米級X光斷層掃描 奈米級X光斷層掃描 同步輻射 X光影像 三維非破壞檢測 自動化上樣系統 自動化樣品預教系統 高速X光影像 AI 自動化分割分析資料
備註
  • 聯絡人
  • 殷廣鈐