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未來科技館 高解析度光學微影銀漿
當今5G通訊電子元件對高解像化及高密度化的金屬線路技術有強烈需求。常用的網版印刷以大約一百微米為解析度極限，無法滿足四十微米以下線寬/線距的解析度要求。本團隊與勤凱公司合作，共同開發新一代可商用銀漿料，相容於光學微影技術，能達到線寬5微米/線距13微米的最佳解析度。操作簡便且效能媲美歐美日大廠。
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電子與光電 創新發明館 以光纖陣列為基礎之數位化滾筒模具的製造技術
本技術結合數位光學處理技術、光纖與微透鏡陣列、精密伺服運動控制，形成一完整之「UV光筆陣列直寫」式的數位UV曝光系統，可以在一金屬滾筒模仁上製作出任意複雜圖型、細線寬、且無縫的微結構，完成一用於滾印製
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先進材料&綠能 未來科技館 鋁金屬合金色彩圖案技術與應用
本技術利用陽極氧化鋁(Anodic Aluminum Oxide, AAO)形成高飽和度結構色彩，並以AAO的結構色彩結合光學微影，在基板上形成圖案，可在各類鋁金屬合金工件上達到高解析度的圖案裝飾，並提出可重複書寫基板與隱形防偽技術的創新應用，達到低成本、高效率、高飽和度的AAO結構色彩與圖案化。
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未來科技館 高解析度紫外光微型發光二極體顯示器
本成果展示一主動式、1920x1080、370nmMicroLED顯示器，在此顯示器製作2,073,600顆像素，對角線具有3200顆像素密度(ppi)，像素是直徑5μm與間距8μm。關鍵技術為良好特性與高均勻性的像素及成功開發覆晶技術結合MicroLED與驅動IC的像素。本成果可以展示圖像與影像。
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