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技術類別
    • 應用無機奈米纖維技術促進生技發展

      先進材料&綠能 未來科技館 應用無機奈米纖維技術促進生技發展

      透過濕度調控的靜電紡絲與高溫退火技術來製備具有表面和界面缺陷的無機多孔性奈米纖維。在不同波長的光源(380~780 nm)照射下,可將儲存於價帶之束縛電子激發至導帶於材料表面形成自由電子,產生不同強度的微電流、光敏感能力和微電流變化。因為本技術具高獨特性與高產品相容性,使其可應用的市場領域非常廣泛。
    • (test)應用無機奈米纖維技術促進生技發展

      先進材料&綠能 未來科技館 (test)應用無機奈米纖維技術促進生技發展

      透過濕度調控的靜電紡絲與高溫退火技術來製備具有表面和界面缺陷的無機多孔性奈米纖維。在不同波長的光源(380~780 nm)照射下,可將儲存於價帶之束縛電子激發至導帶於材料表面形成自由電子,產生不同強度的微電流、光敏感能力和微電流變化。因為本技術具高獨特性與高產品相容性,使其可應用的市場領域非常廣泛。
    • 先進原子層材料與模組技術

      先進材料&綠能 未來科技展 先進原子層材料與模組技術

      隨著摩爾定律的快速發展,現今半導體技術已演進至小於10 nm的技術節點,材料與元件的關鍵尺寸將進入原子等級精準度的要求。因此本計畫開發各式原子層技術,包含原子層沉積、原子層退火、原子層磊晶、以及原子層蝕刻等等,以實現具有小於1nm精準度之材料沉積、退火、成長、以及蝕刻等先進半導體製程技術。