技術名稱 低溫製備低電阻石墨烯/銅複合導線技術
計畫單位 國立成功大學
計畫主持人 涂維珍
技術簡介
在銅導線上全程400 ℃低溫方式製作高品質石墨烯,此石墨烯/銅複合導線擁有優於純銅之導電度,是實現高密度晶片之關鍵技術。
科學突破性
以400 ℃低溫製程製備石墨烯於不同線寬的銅導線以及N16晶片之銅導線上,由拉曼頻譜證實此石墨烯的缺陷低,並且石墨烯/銅複合導線的導電度高於純銅。此技術將有高度潛力應用於現有後段製程,加速高密度晶片的開發。
產業應用性
石墨烯具有高導電性、高電子遷移率、高透光性、高導熱性與可撓曲等優點,然而傳統石墨烯的製備溫度過高,此低溫成長石墨烯技術不僅可實際應用於連接電晶體的導線,亦可用於多項電子、光電或生醫元件之電極。另一方面,石墨烯具有可撓性,此技術開發之石墨烯可作為柔性元件或電路之電極或主動層,解決傳統材料無法撓曲的缺點。
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