技術名稱 | 落射頂錐殼層光超解析系統 | ||
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計畫單位 | 國立清華大學 | ||
計畫主持人 | 江安世 | ||
技術簡介 | 本發明提供一種落射頂錐殼層光超解析系統及落射熒光顯微鏡。落射頂錐殼層光超解析系統包含:發光元件、透鏡組及物鏡。發光元件發出的激發光通過透鏡組後折射為環形光,並聚焦至物鏡的後物鏡後焦平面,物鏡將環形光聚焦形成環形光錐並聚焦於樣本位置,環形光錐具有固定的厚度。此外,激發及取像皆使用同一物鏡,進而達成落射熒光顯微鏡。 |
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科學突破性 | 落射頂錐殼層光超解析系統有以下多項技術突破: |
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產業應用性 | 落射頂錐殼層光超解析系統因其簡約設計和與一般共軛焦顯微鏡兼容性,使得此系統相較於大廠的超解析顯微鏡較有競爭力。更重要的是,頂錐光環專利可避免螢光漂白和損壞在超解析顯微鏡技術上的問題,也會導致顯微鏡大廠像是Zeiss和Olypus若要使用此光學技術非得得到授權或是買斷此專利才得以改善他們系統內雷射容易破壞螢光蛋白的問題。 |
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關鍵字 | 超解析顯微鏡 落射螢光顯微術 大組織 光學切片 三維生物影像 顯微鏡模組 激發光束工程 區域定位顯微術 多通道螢光 染劑顯微術 |