| 技術名稱 | 精準數位化原子層蝕刻技術 | ||
|---|---|---|---|
| 計畫單位 | 國立臺灣大學 | ||
| 計畫主持人 | 陳敏璋 | ||
| 技術簡介 | 具有埃(Å)尺度之精準度、逐層(layer-by-layer)蝕刻、高度共形性(conformality)、大面積均勻、以及無表面損傷(damage-free)之先進原子層蝕刻技術 |
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| 科學突破性 | 原子層蝕刻技術具有埃(Å)尺度之精準度、高度共形性(conformality)、逐層(layer-by-layer)蝕刻、自限性(self-limiting)、自停止性(self-stop)、大面積均勻、以及無表面損傷(damage-free)等特性，可應用於次世代原子層級之先進半導體元件。 |
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| 產業應用性 | 提供逐層(layer-by-layer)蝕刻、無表面損傷(damage-free)，高度共形性(conformality)、大面積均勻、並具原子層級的精準蝕刻技術，用以實現次世代原子層級之先進半導體元件。 |
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| 關鍵字 | 原子層沉積 原子層蝕刻 逐層蝕刻 無表面損傷蝕刻 高共形性蝕刻 先進半導體元件製造 原子層技術 鰭式場效應電晶體 環繞閘極場效應電晶體 大面積均勻 | ||
- 聯絡人
- 殷瑀彤
- 電子信箱
- ytyin@ntu.edu.tw
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