本技術包含了兩個深度學習網路用來模擬實際製程，第一個LithoNet 網路根據所給定的積體電路設計圖，模擬光學微影及蝕刻製程產生出一張預測的電路形狀。第二個OPCNet 網路藉由前面已經訓練好的光學蝕刻模擬網路，而修正獲得一個新的遮罩，在經過實際製程後能夠得到與原始電路圖獲得極為相近的結果。

本技術為世界第一個可準確模擬光學微影及蝕刻製程對積體電路金屬線路所產生形變的深度學習網路，可以遠快於現有光學模型模擬器的速度，準確地模擬出電路形狀，並據以修正光罩形狀。

本技術可用於積體電路製造業進行電路預測，瑕疵分析等虛擬量測等應用，及積體電路之設計可製造性之提升。