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電子與光電 創新發明館 高精度無光罩式UV曝光機應用於IC載板與先進封裝產業
本技術結合數位光學處理技術、微透鏡與空間濾波器陣列、精密伺服運動控制，形成一完整之無光罩式數位UV曝光系統，可以在一大面積基板上製作出任意複雜圖形、細線寬的光阻微結構，應用於IC載板與先進封裝產業。
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電子與光電 未來科技館 黃光微影覆蓋量測之抽樣與預測及增量學習模型之應用
透過「微影覆蓋誤差量測的抽樣與預測」技術，降低誤差量測的成本與時間，以提高製程效率。經由分群技術與機增量學習模型演算法找出關鍵量測點，建立黃光覆蓋誤差量測點的減點演算法，並可因應產品客製化要求、晶圓種類繁複與樣本資料量測量少的問題，動態增量學習不同資料特徵，以達優化減點與降低成本之目標。
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未來科技館 基於深度學習的光刻電路失真預測，光罩修正及新穎布局圖樣偵測的設計自動化技術
本案所發明的半導體光刻製程電路失真預測自動化技術，包含了一個基於深度學習之光刻失真預測模型，一個光罩圖樣修正模型，和一個新穎佈局圖樣偵測模型。被預測的新穎佈局圖樣，除了可送回設計端重新檢視之外，亦可送入製程端產生實際成品後作為訓練樣本，以修正這些深度學習式網路模型，精進模型的效能。
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未來科技館 新型高頻、高功率氮化鎵電晶體技術
"一、高功率氮化鎵元件 新設計常關型閘極氧化層堆疊與氧化鋯鉿氧化層結合，高電流（770mA/mm）與高耐壓（830V）。 二、高頻氮化鎵元件 新專利步進機二次曝光技術，達到超小線寬，操作頻率達200GHz。 三、高效率無線快充與模組 本實驗群利用頻率共振原理、E類放大器以及高頻整流實現一對多遠距快充
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