本技術利用半導體CMOS製程常用的低成本光學微影技術，成功在8吋玻璃基板製造出332顆直徑8毫米、每顆包含7000萬組奈米結構的高效率近紅外光與可見光的超穎透鏡，達到接近繞射極限的轉換效率，實現光學微影技術批量製造超穎表面與超穎透鏡，並使微型CMOS感測器中光學和電子元件的集成成為可能。

本技術使用半導體CMOS製程常見的材料與設備，透過低成本的光學微影與解析度增益技術，實現大量製造大面積近紅外與可見光的超穎透鏡與超穎表面全像片，因可精準地控制奈米柱的高度與尺寸，本技術展示的超穎透鏡有接近繞射極限的高轉換效率，未來可設計高規格超穎透鏡同時集成於 IC晶片。

近年元宇宙概念興起，帶動虛擬與擴增實境（Virtual / Augmented Reality, VR/AR）相關穿戴裝置的發展，超穎表面與超穎透鏡可取代整合傳統的光學元件的功能，且集成光學和電子元件於微小的IC晶片，對未來穿戴裝置或是CMOS感測模組的微小輕量化將是極有潛力的應用。