本技術利用光學模擬結合3D列印開模製作螢光高分子抗反射膜，可應用於各案場之光伏模組以達到增益光學吸收、降低死區耗損、增加太陽光譜利用率等多重優勢，且該螢光高分子抗反射膜也可直接用於可撓式模組封裝，未來在戶外休閒、建築設施、國防通訊、農業等領域都有實際應用需求。

本技術利用低成本3D列印開模技術結合連續式壓印製作螢光高分子抗反射膜，可針對各案場條件提供最佳之抗反射效果，也可對不同串接方式之模組調整結構周期避開死區損耗，同時藉由量子點技術擴展太陽光譜之利用率，目前仍無相同概念之製程被提出。

未來光伏產業將朝多樣化應用發展，但至今尚無可因應各案場條件之低成本、客製化的抗反射技術。而本技術使用的高分子膜材料可為EVA、POE、UV固化膠或Teflon AF，依模組生命期及實際應用場域而定，且該高分子薄膜可直接應用於可撓式光伏模組封裝製程，可用於各種曲面之外也方便摺疊收納，使用者能自行組裝架設，用途彈性高。