雙光子微影結合了雷射直寫技術，透過物鏡聚焦後在焦點與材料發生雙光子吸收效應，進而使材料鏈結或斷鍵，透過壓電平台的移動，製作出3D微結構及任意3D結構。
目前這個平台可製作約300nm的橫向解析度，1200nm的縱向解析度，結構高度可大於130um，最高加工速度可達100um/s，目前朝自動化及關燈生產邁進。未來振鏡系統之加工速度可再提升100倍。

我們的系統有最新開發之路徑規劃軟體，不僅使結構精度大幅提升，還可適用於成型任意曲面之結構，如複合式透鏡。此外，我們也開發連續多檔拼接之功能，此系統除了降低了人為操作誤差以外，也定期監控及修正雷射功率，使結構良率提升，邁向關燈生產，目前成功應用並製作出大面積之非球面微透鏡陣列，結構誤差為奈米等級。

我們的雙光子微影技術能製作出許多不同結構，優異的解析度與精度，以及隨意形狀、快速成型的結構是我們提供產業的價值，此外，我們研發出的連續多檔自動化拼接之功能，能夠製作出大面積陣列結構，使得本實驗室的產業價值大幅提升。目前本實驗室開發中的振鏡快速成形系統，將使得我們的製造速度提升至現有技術的100倍。