首頁
關於我們
未來科技館
官方粉絲團
交通資訊
精彩活動回顧
2024 國際趨勢論壇與前瞻技術發表
2023 國際趨勢論壇與前瞻技術發表
最新消息
活動快訊
技術媒合
技術搜尋
前往預約媒合
媒體中心
影音專區
活動照片
資料下載
新聞稿
展區介紹
重點活動與展區介紹
展覽手冊
全館平面圖
徵獎介紹
未來科技獎
TIE Award
繁體中文
繁體中文
English
:::
首頁
/
年度
/
2017
/
電子與光電
/
原子層數位化蝕刻技術
為您推薦
一種深冷電化學在矽基板上合成奈米方法
精準數位化原子層蝕刻技術
垂直剩餘通道之三維電晶體
單晶片量子點混合型微型發光二極體全彩畫素陣列
收藏
技術名稱
原子層數位化蝕刻技術
計畫單位
國立臺灣大學
計畫主持人
-
技術簡介
利用氧化氣體擴散瓶頸加上化學蝕刻,達到蝕刻厚度的精準度在原子尺度
科學突破性
大面積蝕刻率均勻,可以不需要利用時間控制
產業應用性
電晶體製程技術,十奈米以下電晶體製程技術
關鍵字
聯絡人
黃慧嫺
電子信箱
futuretech.most@gmail.com
預約媒合
預約洽談
請選擇媒合活動
發送成功
預約洽談
視訊會議
其他人也看了
本網站使用您的Cookie於優化網站。繼續瀏覽網站即表示您同意本公司隱私權政策,您可至隱私權政策了解詳細資訊。
我同意